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Manuel de la technologie avancée des semi-conducteurs et des systèmes informatiques <|-

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Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems <|
baham_books
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Caractéristiques de l'objet

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Neuf: Livre neuf, n'ayant jamais été lu ni utilisé, en parfait état, sans pages manquantes ni ...
PublishedOn
2012-06-24
Title
Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Syste
ISBN
9789401170581
Publication Name
Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems
Publisher
Springer
Subject
Education
Publication Year
2012
Series
Van Nostrand Reinhold Electrical/Computer Science and Engineering Series
Type
Study Guide
Format
Paperback
Language
English
Item Height
235 mm
Author
Guy Rabbat
Item Weight
1442 g
Item Width
155 mm
Number of Pages
942 Pages

À propos de ce produit

Product Information

Chapter I describes deposition as a basic microelectronics technique. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon oxide. The main advantage of PECVD stems from the intro duction of plasma energy to the CVD environment, which makes it possible to promote chemical reactions at relatively low temperatures. A natural extension of this is to use this plasma energy to lower the temperature required to obtain a crystalline deposit. This chapter discusses the PECVD technique and its ap plication to the deposition of dielectric, semiconductor, and conductor films of interest to microelectronics. Chapter 2 acquaints the reader with the technology and capabilities of plasma processing. Batch etching reactors and etching processes are approaching ma turity after more than ten years of development. Requirements of anisotropic and selective etching have been met using a variety of reactor configurations and etching gases. The present emphasis is the integration of plasma etching processes into the overall fabrication sequence. Chapter 3 reviews recent advances in high pressure oxidation technology and its applications to integrated circuits. The high pressure oxidation system, oxi dation mechanisms, oxidation-induced stacking faults, impurity segregation, and oxide quality are described. Applications to bipolar and MOS devices are also presented.

Product Identifiers

Publisher
Springer
ISBN-13
9789401170581
eBay Product ID (ePID)
209439850

Product Key Features

Number of Pages
942 Pages
Language
English
Publication Name
Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems
Publication Year
2012
Subject
Education
Type
Study Guide
Author
Guy Rabbat
Series
Van Nostrand Reinhold Electrical/Computer Science and Engineering Series
Format
Paperback

Dimensions

Item Height
235 mm
Item Weight
1442 g
Item Width
155 mm

Additional Product Features

Country/Region of Manufacture
Netherlands
Title_Author
Guy Rabbat

Description de l'objet fournie par le vendeur

Informations sur le vendeur professionnel

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Berkshire
RG30 1DZ
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Numéro d'immatriculation de la société :
  • 03800600
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Numéro CRN :
  • 03800600
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