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GRAVURE IONIQUE RÉACTIVE TRION PHANTOM II RIE ICP avec SOURCE PLASMA COUPLÉE INDUCTIVEMENT-
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Numéro de l'objet eBay :275365678487
Dernière mise à jour le 01 mai 2024 15:33:57 Paris. Afficher toutes les modificationsAfficher toutes les modifications
Caractéristiques de l'objet
- État
- Occasion
- Commentaires du vendeur
- Type
- Inductively Coupled Plasma Source
- MPN
- Phantom II
- Equipment/Component Type
- RIE ICP/ Reactive Ion Etcher
- Brand
- Trion Technology
- Model
- Advanced Energy 3155082-220, Applied Energy EPS200
- Model_
- MKS LPV-25-AK-C0VS, MKS 153F-3-80-2
- Model__
- Pfeiffer TPH 521 P C/ PMP02861H
- Model____
- Pfeiffer TPS 300/ PM041814-T, VAT 02110-BH24-0001
Description de l'objet fournie par le vendeur
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Taxe de vente pour l'objet n°275365678487
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